Această lucrare are drept scop pricipal studierea procesul de degradare și oxidare/mineralizare a sistemelor model ce conțin cefalexină prin utilizarea reagentului foto-Fenton. În vederea optimizării procesului de degradare, au fost stabiliți parametrii fizico-chimice care influențează performanța de epurare a cefalexinei. Astfel, s-au realizat studii experimentale în intervalul de pH (2-11), în funcție de concentrația oxidantului (0,34-34 mg/L, catalizatorului (0-28 mg/L) și timpul de reacție (până la 120 min) la concentrația cefalexinei de 50 mg/L. Toate studiile experimentale au fost efectuate cu expunerea soluției de CLX la iradiere cu raze ultaviolete tip C. În consecință, pentru oxidarea a 50 mg/L a fost obținută o eficiența optimă de degradare de 80% în mediul de reacție acid (pH=2,5) cu adăugarea a 3,4 mg/L oxidant (preoxid de hidrogen) și 5,6 mg/L ioni Fe2+ la iradiere cu raze ultaviolete de tip C(ʎ=254 nm) timp de 60 min la temperatura camerei. Astfel, studiul actual a demonstrat că reagentul foto-Fenton poate fi utilizat în mod eficient ca proces de oxidare avansată pentru epurarea sistemelor cu conținut de cefalexină în condiții de mediu optimizate.
This paper purposes to study the degradation and oxidation/mineralization process of cephalexin by using Photo-Fenton reagent. The degradation rate was carried out as a function of pH value in the range 2–11, concentration of oxidant H2O2 (0,34–34 mg/L), catalyst Fe2+ (0–28 mg/L), contact time (up to 120 min) at 50 mg/L concentration of cephalexin. All experiments were performed with exposure to UVC irradiation. Consequently, the 80% degradation rate was obtained at pH-2,5, oxidant concentration-3,4 mg/L, catalyst concentration-5,6 mg/L, substrate concentration-50,0 mg/L, and contact time-60 min. A a result of this, the actual study revealed that the Photo-Fenton process may be used effectively as an advanced oxidation treatment unit for degradation/mineralization of cephalexin under optimized conditions.
